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Porapak Q 填充柱 測(cè)定電子工業(yè)用氣體氧中氧化亞氮
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Porapak Q 填充柱 測(cè)定電子工業(yè)用氣體氧中氧化亞氮

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產(chǎn)品名稱(chēng):Porapak Q 填充柱 測(cè)定電子工業(yè)用氣體氧中氧化亞氮

產(chǎn)品型號(hào):Porapak Q 填充柱

產(chǎn)品廠商:浩瀚色譜(山東)應(yīng)用技術(shù)開(kāi)發(fā)有限公司

簡(jiǎn)單介紹

測(cè)定電子工業(yè)用氣體氧中氧化亞氮,液化石油氣,二甲醚,甲縮醛,乙縮醛,乙醇,室內(nèi)空氣,焦?fàn)t煤氣,煉廠氣,天然氣,變壓器油,多氯聯(lián)苯,植物油,6號(hào)溶劑殘留,裂解進(jìn)樣器

Porapak Q 填充柱 測(cè)定電子工業(yè)用氣體氧中氧化亞氮的詳細(xì)介紹

測(cè)定電子工業(yè)用氣體氧中氧化亞氮
測(cè)定電子工業(yè)用氣體氧中氧化亞氮 詳細(xì)信息:

分析色譜柱1:
規(guī)格: 6m*2mm(內(nèi)徑)
材質(zhì):不銹鋼管,
粒度:內(nèi)裝粒度為0.18mm-0.25um
型號(hào):Porapak Q,
應(yīng)用:分析氧中氧化亞氮組分

切割色譜柱1:
規(guī)格:6m*2mm(內(nèi)徑)
材質(zhì):不銹鋼管,
粒度:內(nèi)裝粒度為0.18mm-0.25um
型號(hào):Porapak Q,
應(yīng)用:分析氧中氧化亞氮組分時(shí)的切割

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)用氧的技術(shù)要求,試驗(yàn)方法以及包裝、標(biāo)志、貯運(yùn)及安全。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于以深冷法、電解法提取的氣態(tài)或液態(tài)氧,以及經(jīng)純化方法得到的氧。它們主要用于二氧化硅化學(xué)氣相淀積,用作氧化源和生產(chǎn)高純水的反應(yīng)劑,用于等離子體蝕刻和剝離、光導(dǎo)纖維。 分子式:O2。 相對(duì)分子質(zhì)量:31.998 8(按2005年國(guó)際相對(duì)原子質(zhì)量計(jì)算)。

測(cè)定電子工業(yè)用氣體氧中氧化亞氮 測(cè)試譜圖:


Determination of Nitrous Oxide in Gas Oxygen for Electronic Industry
Determination of nitrous oxide in gaseous oxygen used in the electronics industry Details:

Analytical column 1:
Specification: 6m*2mm (inner diameter)
Material: stainless steel tube,
Particle size: the internal particle size is 0.18mm-0.25um
Model: Porapak Q,
Application: Analysis of nitrous oxide components in oxygen

Cutting column 1:
Specification: 6m*2mm (inner diameter)
Material: stainless steel tube,
Particle size: the internal particle size is 0.18mm-0.25um
Model: Porapak Q,
Application: Cutting when analyzing nitrous oxide components in oxygen

This standard specifies the technical requirements, test methods, packaging, marking, storage and transportation, and safety of oxygen in the electronics industry. This standard applies to gaseous or liquid oxygen extracted by cryogenic and electrolytic methods, and oxygen obtained by purification methods. They are mainly used for chemical vapor deposition of silicon dioxide, as an oxidation source and as a reactant for the production of high-purity water, for plasma etching and stripping, and optical fiber. Molecular formula: O2. Relative molecular mass: 31.998 8 (calculated according to the 2005 international relative atomic mass).

Determination of nitrous oxide in gaseous oxygen used in the electronics industry Test spectrum:

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